硅片清洗水處理
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微量污染也會導(dǎo)致器件失效。清洗的目的在于清除表面污染雜質(zhì),包括有機(jī)物和無機(jī)物。這些雜質(zhì)有的以原子狀態(tài)或離子狀態(tài),有的以薄膜形式或顆粒形式存在于硅片表面。有機(jī)污染包括光刻膠、有機(jī)溶劑殘留物、合成蠟和人接觸器件、工具、器皿帶來的油脂或纖維。無機(jī)污染包括重金屬金、銅、鐵、鉻等,嚴(yán)重影響少數(shù)載流子壽命和表面電導(dǎo);堿金屬如鈉等,引起嚴(yán)重漏電;顆粒污染包括硅渣、塵埃、細(xì)菌、微生物、有機(jī)膠體纖維等,會導(dǎo)致各種缺陷。
1、主要零部件均采用世界名牌産品,經(jīng)CAD設(shè)計(jì),技術(shù)先進(jìn),性能可靠、産水性能優(yōu)良。
2、前置預(yù)處理保護(hù)裝置,確保高壓泵及反滲透膜不受硬物損壞。
3、脫鹽率高,運(yùn)行壓力低的卷式復(fù)合膜提高了系統(tǒng)效率,并除低了運(yùn)行成本。
4、産品濃縮水各設(shè)有流量計(jì),以監(jiān)視并調(diào)節(jié)運(yùn)行出水量及系統(tǒng)回收率。
5、在線電導(dǎo)儀表連續(xù)監(jiān)測産品水質(zhì),帶有設(shè)定值和報(bào)警。
6、進(jìn)水及排水系統(tǒng)壓力表監(jiān)測反滲透壓差,提示清洗時間,全面的系統(tǒng)監(jiān)視,自動的儀表顯示。
7、靈敏的高壓、低壓開關(guān);防止在異常狀況下對設(shè)備的損壞,確保系統(tǒng)的正常運(yùn)轉(zhuǎn)。
8、硅材料清洗用超純水處理設(shè)備采用先進(jìn)的膜保護(hù)系統(tǒng)定時沖洗膜表面,降低污染速度,延長膜使用壽命。