集成電路芯片用純水設備
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基本情況
導體、集成電路芯片及封裝、液晶顯示、高精度線路板、光電器件、各種電子器件、微電子工業、大規模、大規模集成電路需用大量的純水、高純水、超純水清洗半成品、成品。集成電路的集成度高，線寬窄，對水質的要求也越高。目前我國電子工業部把電子級水質技術分為五個行業等級，分別為18MΩ.cm、15MΩ.cm、10MΩ.cm、2MΩ.cm、0.5MΩ.cm，以區分不同水質。
工藝流程圖
方案優勢
1、系統采用新水處理技術雙級RO+EDI+混床模塊化設計，嚴格按新技術設計標準，確保水質穩定，長效運行。
2、通過專業技術設計，確保系統短時停機及長時間停機時水質保持穩定。
3、通過專業技術保證終端出水恒壓、水質穩定。
4、通過完善的技術大限度的提高系統回收率，降低能耗和運行成本。
5、采用海德能ESPA2超低壓膜，運行穩定，能耗低。
6、采用PH調節系統以確保水溫下降或原水PH值偏低時EDI出水水質。
7、配備專門的有化學清洗系統，可定期對反滲透進行化學清洗，以確保系統穩定運行。
8、配備濃水置換專業技術，防止膜系統受到微生物污染。
9、EDI及后段出水采用超純水專用管道，大限度的保證出水水質。
10、EDI水箱采用氮封裝置，以確保終端水質穩定及延長核能混床壽命。
11、采用PLC加觸摸屏控制系統，并采用進口電氣原件，操作方便，運行穩定。
12、電子半導體行業用超純水設備主體材料全部采用行業內國際知名品牌，保質保量，并按配置設計。
